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元器件失效分析方法
发布时间:2019-08-23        浏览次数:98        返回列表

元器件失效分析方法

器件一旦坏了,千万不要敬而远之,而应该如获至宝。


开车的人都知道,哪里最能练出驾驶水平?高速公路不行,只有闹市和不良路况才能提高水平。社会的发展就是一个发现问题解决问题的过程,出现问题不可怕,但频繁出现同一类问题是非常可怕的。


失效分析基本概念


定义:对失效电子元器件进行诊断过程。


1、进行失效分析往往需要进行电测量并采用先进的物理、冶金及化学的分析手段。


2、失效分析的目的是确定失效模式和失效机理,提出纠正措施,防止这种失效模式和失效机理的重复出现。


3、失效模式是指观察到的失效现象、失效形式,如开路、短路、参数漂移、功能失效等。


4、失效机理是指失效的物理化学过程,如疲劳、腐蚀和过应力等。


失效分析的一般程序


1、收集现场场数据


2、电测并确定失效模式


3、非破坏检查


4、打开封装


5、镜验


6、通电并进行失效定位


7、对失效部位进行物理、化学分析,确定失效机理。


8、综合分析,确定失效原因,提出纠正措施。


1、收集现场数据:


应力类型


试验方法


可能出现的主要失效模式


电应力


静电、过电、噪声


MOS器件的栅击穿、双极型器件的pn结击穿、功率晶体管的二次击穿、CMOS电路的闩锁效应


热应力


高温储存


金属-半导体接触的Al-Si互溶,欧姆接触退化,pn结漏电、Au-Al键合失效


低温应力


低温储存


芯片断裂


低温电应力


低温工作


热载流子注入


高低温应力


高低温循环


芯片断裂、芯片粘接失效


热电应力


高温工作


金属电迁移、欧姆接触退化


机械应力


振动、冲击、加速度


芯片断裂、引线断裂


辐射应力


X射线辐射、中子辐射


电参数变化、软错误、CMOS电路的闩锁效应


气候应力


高湿、盐雾


外引线腐蚀、金属化腐蚀、电参数漂移


2、电测并确定失效模式


电测失效可分为连接性失效、电参数失效和功能失效。


连接性失效包括开路、短路以及电阻值变化。这类失效容易测试,现场失效多数由静电放电(ESD)和过电应力(EOS)引起。


电参数失效,需进行较复杂的测量,主要表现形式有参数值超出规定范围(超差)和参数不稳定。


确认功能失效,需对元器件输入一个已知的激励信号,测量输出结果。如测得输出状态与预计状态相同,则元器件功能正常,否则为失效,功能测试主要用于集成电路。


三种失效有一定的相关性,即一种失效可能引起其它种类的失效。功能失效和电参数失效的根源时常可归结于连接性失效。在缺乏复杂功能测试设备和测试程序的情况下,有可能用简单的连接性测试和参数测试方法进行电测,结合物理失效分析技术的应用仍然可获得令人满意的失效分析结果。


3、非破坏检查


名称


应用优势


主要原理


X射线透视技术


以低密度区为背景,观察材料的高密度区的密度异常点


透视X光的被样品局部吸收后成象的异常


反射式扫描声学显微术(C-SAM)


以高密度区为背景,观察材料内部空隙或低密度区


超声波遇空隙受阻反射



4、打开封装


开封方法有机械方法和化学方法两种,按封装材料来分类,微电子器件的封装种类包括玻璃封装(二极管)、金属壳封装、陶瓷封装、塑料封装等。Œ


机械开封


化学开封


5、显微形貌像技术


光学显微镜分析技术


扫描电子显微镜的二次电子像技术


电压效应的失效定位技术


6、半导体主要失效机理分析


电应力(EOD)损伤


静电放电(ESD)损伤


封装失效


引线键合失效


芯片粘接不良


金属半导体接触退化


钠离子沾污失效


氧化层针孔失效